Systèmes de transmission radiofréquences

Table des matières

INTRODUCTION GENERALE
CHAPITRE Ι : LES TECHNOLOGIES DE FILTRAGE RF : COURSE PERMANENTE VERS LA MINIATURISATION EXTREME
I. INTRODUCTION
II. DIFFERENTS TYPES DE FILTRES
II.1. Filtres actifs
II.2. Technologies planaires
II.3. Filtres MEMS
III. LA PIEZOELECTRICITE
III.1. Piézoélectricité et symétries de la structure cristalline
III.2. Différences entre l’effet diélectrique et l’effet piézoélectrique
III.3. Les matériaux piézoélectriques utilisés de nos jours
IV. DIFFERENTS TYPES DES FILTRES PIEZOELECTRIQUES
IV.1. SAW
IV.2. BAW
IV.3. Micro-résonateurs
V. LES MICRO-RESONATEURS
V.1. Design
V.2. Les avantages de cette technologie
V.3. Travaux réalisés sur les micro-résonateurs
VI. CONCLUSION
BIBLIOGRAPHIE DU CHAPITRE Ι
CHAPITRE ΙΙ : ETUDE SUR LE MATERIAU PIEZOELECTRIQUE ZNO ET PROCEDE DE FABRICATION DES MICRO-RESONATEURS
I. INTRODUCTION
II. LE PROCEDE DE FABRICATION DES MICRO-RESONATEURS PIEZOELECTRIQUES
II.1. La réalisation de la membrane suspendue
II.2. Réalisation de l’électrode inférieure
II.3. Dépôt de la couche mince piézoélectrique de ZnO
II.4. Implémentation des électrodes supérieures IDTs
III. PROPRIETES ET ETUDE DES DEPOTS DE L’OXYDE DE ZINC (ZNO)
III.1. Structure cristallographique et propriétés mécaniques et électriques du ZnO
III.2. Différentes techniques de dépôt du ZnO
III.3. Réalisation des couches minces de ZnO par la technique PLD
III.4. Difficultés technologiques : contraintes résiduelles dans les films et microfissures
IV. OPTIMISATION DE L’ELECTRODE INFERIEURE DES MICRO-RESONATEURS
IV.1. Caractéristiques structurales et électriques des couches de ZnO déposées sur molybdène et sur platine
IV.2. Optimisation du dépôt de l’électrode inférieure en molybdène
V. FABRICATION DES CIRCUITS MICRO-RESONATEURS
V.1. Dispositifs préliminaires réalisés sur wafer Si HR
V.2. Influence de l’inhomogénéité des couches piézoélectriques sur les performances électriques
VI. CONCLUSION
BIBLIOGRAPHIE DU CHAPITRE ΙΙ
CONCLUSION GENERALE